（深圳电镀厂）真空镀膜和其他镀膜方式相比较具有以下特点：

　　（1）真空镀膜可以在固态基体上镀制金属、合金、半导体薄膜及各种化合物薄膜，薄膜的成分可以在大范围内调控。

　　（2）真空镀膜可以镀制高纯度、高致密度、与基体结合力强的各种功能薄膜、光学薄膜。特别是大规模集成电路、小分子有机显示器件、硅太阳能电池等很多器件所需的主题薄膜只能在真空条件下制备，其他制膜技术无法满足要求。

　　（3）真空镀膜对环境的污染小，特别是PVD方法，对环境基本没有污染。用化学方法制备薄膜时，一方面膜自身受到制膜所使用的溶剂污染，性能降低，另一方面反应废弃物对环境也会造成污染。

　　（4）真空镀膜的主要缺点是需要有真空设备，相对来说成本比较高。

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